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UV-M紫(zi)外(wai)輻(fu)照(zhao)計適用(yong)于殺菌、光刻、固化、紫(zi)外(wai)光源、探傷、材(cai)料老化、水(shui)處(chu)理(li)、醫(yi)療、育(yu)種(zhong)等領(ling)域的紫(zi)外(wai)輻(fu)照(zhao)度測(ce)量(liang)工作。使(shi)用(yong)環境：溫度（20±20）℃；濕度80%

UV-365便攜式紫(zi)(zi)外(wai)(wai)線強度計(ji)（雙通道）采用(yong)(yong)(yong)SMT貼片(pian)(pian)技術，選(xuan)用(yong)(yong)(yong)高(gao)精度低功耗數(shu)字芯片(pian)(pian)，儀器外(wai)(wai)殼(ke)為流線型設計(ji)，探測器經過(guo)嚴格的光譜及角度特性(xing)校正，性(xing)能穩定，適用(yong)(yong)(yong)性(xing)強。適用(yong)(yong)(yong)于光化學、高(gao)分子(zi)材料老化、紫(zi)(zi)外(wai)(wai)光源、以(yi)及大規(gui)模(mo)集(ji)成電(dian)路(lu)光刻等領域的紫(zi)(zi)外(wai)(wai)輻照度測量工作。

便攜式(shi)紫(zi)外(wai)(wai)線強度計(ji)UV-313采用SMT貼片技術，選用高精度低(di)功耗數字芯(xin)片，儀器外(wai)(wai)殼為流線型設計(ji)，探測器經(jing)過嚴格(ge)的光(guang)譜及角度特(te)性校正(zheng)，性能(neng)穩定，適(shi)用性強。適(shi)用于光(guang)化學、高分子材料老化、紫(zi)外(wai)(wai)光(guang)源、以(yi)及大規模集成(cheng)電路光(guang)刻(ke)等領域的紫(zi)外(wai)(wai)輻照度測量(liang)工作。

紫(zi)(zi)外輻照計UV-A采用(yong)SMT貼(tie)片(pian)技術(shu)，選用(yong)高精度(du)低功(gong)耗數(shu)字芯片(pian)，儀(yi)器外殼(ke)為流線型(xing)設計，探(tan)測器經過(guo)嚴(yan)格的光譜及角度(du)特(te)性校正(zheng)，性能穩定，適(shi)用(yong)性強。適(shi)用(yong)于光化學、高分子材(cai)料老化、紫(zi)(zi)外光源、以及大規模(mo)集成電路(lu)光刻等領(ling)域的紫(zi)(zi)外輻照度(du)測量工作(zuo)。

便(bian)攜(xie)式紫(zi)外(wai)(wai)線(xian)(xian)強(qiang)度計UV-B采用SMT貼片技術，選用高精度低功耗數字芯片，儀器外(wai)(wai)殼為(wei)流線(xian)(xian)型(xing)設計，探測器經過嚴格的光譜及角(jiao)度特性校正，性能穩定，適(shi)(shi)用性強(qiang)。便(bian)攜(xie)式紫(zi)外(wai)(wai)線(xian)(xian)強(qiang)度計適(shi)(shi)用于光化(hua)(hua)學、高分子(zi)材(cai)料(liao)老(lao)化(hua)(hua)、紫(zi)外(wai)(wai)光源、以及大規模集成電路光刻(ke)等領(ling)域的紫(zi)外(wai)(wai)輻照度測量工(gong)作。便(bian)攜(xie)式紫(zi)外(wai)(wai)線(xian)(xian)強(qiang)度計廣泛運用衛(wei)生監督。